La silicona es ecológica, ampliamente disponible en la naturaleza y es fácil de preparar el retardante de la llama. La capa de cenizas de sílice también puede evitar que el oxígeno alcance la matriz. Se sintetizó un retardante de llama novedoso, simple y de bajo costo que contenía fósforo, nitrógeno y silicio [17]. LOI mejoró de 18.0 a 27.1, el ángulo de recuperación de arrugas aumentó de 800 a 980. Un nuevo retardante de llama ternaria-silicona-silicona-nitrógeno (FR), [(1,1,3,3-tetrametil-1,3-desilazanediil) di) -2,1-etanediil] bis (óxido de difenilfosfina) (psin) se sintetizó. Se logró una calificación UL 94 V-0 con 20 % en peso de psin en los compuestos de epoxi. La sílice tendía a migrar a la superficie del polímero para su baja energía superficial.
Los componentes de nitrógeno se convirtieron en gas en el proceso de combustión. Los componentes de fósforo jugaron un papel de FR tanto en fase condensada como en fase gaseosa. Todos los resultados indicaron que el FR ternario P-Si-N actual podría ser un buen candidato para el retraso de la llama epoxi [18]. Se prepararon con éxito tres nuevos monómeros de retardantes a base de fósforo reaccionando 1- (acryloyloxi) -3- (metacryloyloxy) -2-propanol (AHM) con hexaclorociclotrifosfazeno. Con la ayuda de un iniciador fotográfico y un sistema de curado de inundación UV, estos monómeros se curaron en sustratos celulósicos para generar recubrimientos de retardantes de llama. Los tres monómeros formaron recubrimientos en condiciones UV en presencia del iniciador de fotos que eran duraderos para la extracción. Solo el 15 % de estos monómeros fueron requeridos para evitar que los sustratos se combustieran en las orientaciones horizontales, 450 y verticales [19]. Recientemente, los monómeros que contienen silicio se han utilizado con éxito como HF de tipo reactivo, especialmente los silsesquioxanos oligoméricos poliédricos (POS), debido a su notable efecto de refuerzo [20].
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